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タイトル
  • en Fabrication of Oxide Semiconductors and Fromation of the Heterostructure by UV Oxidation of Metallic Thin Films
その他のタイトル
  • ja 金属薄膜の紫外線酸化による酸化物半導体の作製およびヘテロ接合の形成
作成者
    • ja 張, 東元 ja-Kana ザン, ドンウェン en Zhang, Dongyuan
アクセス権 open access
内容注記
  • Other 2014
言語
  • eng
資源タイプ doctoral thesis
出版タイプ VoR
資源識別子 URI https://uec.repo.nii.ac.jp/records/855
学位情報
  • 学位授与番号 甲第773号
  • 学位授与機関
    • 識別子名 kakenhi
    • 識別子 12612
    • 機関名称 電気通信大学
  • 学位授与年月日 2014-09-30
  • 学位名 博士（工学）
ファイル
コンテンツ更新日時 2024-02-02