| タイトル |
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ja
次世代高性能シリコン薄膜デバイス製造に向けた低温シリコン膜の研究開発(平成23年度)
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| 作成者 |
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ja
福田, 永
en
FUKUDA, Hisashi
ja-Kana
フクダ, ヒサシ
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ja
植杉, 克弘
ja-Kana
ウエスギ, カツヒロ
en
UESUGI, Katsuhiro
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ja
城, 尚志
en
SHIRO, Takashi
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| アクセス権 |
open access |
| 権利情報 |
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ja
© 2014 室蘭工業大学地域共同研究開発センター
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| 主題 |
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| 内容注記 |
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Other
application/pdf
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Other
ja
共同研究プロジェクト成果
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| 出版者 |
ja
室蘭工業大学地域共同研究開発センター
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| 言語 |
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| 資源タイプ |
departmental bulletin paper |
| 出版タイプ |
VoR |
| 資源識別子 |
HDL
http://hdl.handle.net/10258/00009042
,
URI
https://muroran-it.repo.nii.ac.jp/records/9064
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| 関連 |
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isIdenticalTo
NAID
40020050577
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URI
https://www.muroran-it.ac.jp/crd/books/report.html
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isVersionOf
URI
https://www.muroran-it.ac.jp/crd/books/pdf/No24-ken.pdf
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| 収録誌情報 |
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ja
室蘭工業大学地域共同研究開発センター研究報告
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巻24
開始ページ1
終了ページ3
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| ファイル |
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| コンテンツ更新日時 |
2023-10-27 |
