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Title
  • ja 高密度プラズマ発生装置の開発と次世代薄膜形成への応用に関する研究
  • en Development of high density plasma apparatus and its application to next generation thin film formation technology
Creator
    • ja 福田, 永 en FUKUDA, Hisashi ja-Kana フクダ, ヒサシ
    • ja 平尾, 孝 en HIRAO, Takashi ja-Kana ヒラオ, タカシ
    • ja 佐藤, 孝紀 ja-Kana サトウ, コウキ en SATOH, Kohki
    • ja 植杉, 克弘 ja-Kana ウエスギ, カツヒロ en UESUGI, Katsuhiro
Accessrights open access
Rights
  • ja © 2009 室蘭工業大学地域共同研究開発センター
Subject
  • NDC 427.6
Description
  • Other application/pdf
  • Other ja 平成20年度共同研究プロジェクト成果
Publisher ja 室蘭工業大学地域共同研究開発センター
Date
    Issued2009-12
Language
  • jpn
Resource Type departmental bulletin paper
Version Type VoR
Identifier HDL http://hdl.handle.net/10258/00009097 , URI https://muroran-it.repo.nii.ac.jp/records/9121
Relation
  • isIdenticalTo NAID 40017012776
  • URI http://www.muroran-it.ac.jp/crd/books/books.html
  • isVersionOf URI http://www.muroran-it.ac.jp/crd/books/pdf/No20-ken.pdf
Journal
    • NCID AN10363915
      • ja 室蘭工業大学地域共同研究開発センター研究報告
      • Volume Number20 Page Start6 Page End10
File
Oaidate 2024-01-26