Title |
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ja
高密度プラズマ発生装置の開発と次世代薄膜形成への応用に関する研究
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en
Development of high density plasma apparatus and its application to next generation thin film formation technology
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Creator |
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ja
福田, 永
en
FUKUDA, Hisashi
ja-Kana
フクダ, ヒサシ
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ja
平尾, 孝
en
HIRAO, Takashi
ja-Kana
ヒラオ, タカシ
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ja
佐藤, 孝紀
ja-Kana
サトウ, コウキ
en
SATOH, Kohki
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ja
植杉, 克弘
ja-Kana
ウエスギ, カツヒロ
en
UESUGI, Katsuhiro
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Accessrights |
open access |
Rights |
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ja
© 2009 室蘭工業大学地域共同研究開発センター
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Subject |
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Description |
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Other
application/pdf
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Other
ja
平成20年度共同研究プロジェクト成果
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Publisher |
ja
室蘭工業大学地域共同研究開発センター
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Date |
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Language |
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Resource Type |
departmental bulletin paper |
Version Type |
VoR |
Identifier |
HDL
http://hdl.handle.net/10258/00009097
,
URI
https://muroran-it.repo.nii.ac.jp/records/9121
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Relation |
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isIdenticalTo
NAID
40017012776
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URI
http://www.muroran-it.ac.jp/crd/books/books.html
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isVersionOf
URI
http://www.muroran-it.ac.jp/crd/books/pdf/No20-ken.pdf
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Journal |
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ja
室蘭工業大学地域共同研究開発センター研究報告
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Volume Number20
Page Start6
Page End10
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File |
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Oaidate |
2024-01-26 |